coaterxf 发表于 2014-3-29 12:01 static/image/common/back.gif
给你一个风险点供参考：
首先是设备硬件不稳定造成的，修改工艺参数没意义。
可能是监控膜厚的系统不稳定 ...
龙翩机的光控那里有温度探头，光驰机就不知道了。
加热装置和冷却系统都检查下吧，做下清洗。
shutter的开关速度是否正常？
有没有材料绕射过shutter?
产品倾斜20°测试，看通带透射率的变化。如果和0°测试差不多，就是整体镀多镀少的问题，那就找影响tooling的因素。如果透射率变化了，你在TFC中模拟下就知道哪种材料相对镀多了。
機台不穩定吧
whpe2000 发表于 2014-4-9 20:20 static/image/common/back.gif
在论坛上好久没看到这样讨论技术问题的帖子了
光驰的设备使用间接光控的方式监控,在镀窄带滤光片 ...
O在10年也推出直接光控了，还不错的。
1000nm附近，20nm带宽是比较考验非直接监控的，对直控来说压力不大，但产量会低些。
漂移问题，一般不在监控信号本身，而在于比例系数即Tooling的变化。
MorningTech 发表于 2014-4-9 21:58 static/image/common/back.gif
O在10年也推出直接光控了，还不错的。
1000nm附近，20nm带宽是比较考验非直接监控的，对直控来说压力不大 ...
现在做CVD镀膜，在球面上做IR Cut，才体会到简单的才是难的。
温度和真空度最简单，但是在管道、阀门、流量计等各个环节的真空度和温度真的清楚吗，这些基本的因素对工艺气体的物理特性有什么影响，往往是牵一发而动全身，忽视了一个很小的细节就会失败。
工艺是建立在硬件基础上的，不了解硬件的工作原理和结构就想做好工艺很难。
看完了，基本同意17楼的说法。但楼主说此膜系用了6年。我想最近有没有其它的条件有变化（镀膜的变量太多了）。我说两个看似不着边际，但也有可能的因素。1、工作气体的纯度？2、工作环境是否有磁干扰。
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宇宙深处 发表于 2014-4-18 18:50 static/image/common/back.gif
看完了，基本同意17楼的说法。但楼主说此膜系用了6年。我想最近有没有其它的条件有变化（镀膜的变量太多了） ...
要是监控方式问题的话，那就没救啦，机器就是这样设计的啊。只能理解为工作年限到了，误差出来了。气体纯度会影响漂移？是来回的飘啊，一瓶气体用很久的啊。机器周围磁场应该没关系，因为这几年机器周围环境没有什么变动，也没有增添新设备再周围。
还发现一个问题，不动控制波长的话是小范围的飘，2NM左右。如果动了话就大范围的飘了，10-20NM了。
haisheng_0_0 发表于 2014-4-21 16:01 static/image/common/back.gif
要是监控方式问题的话，那就没救啦，机器就是这样设计的啊。只能理解为工作年限到了，误差出来了。气体纯 ...
控制波长不动，用一个波长监控到底？
非规整，两层一个比较片， 还是规整的？
MorningTech 发表于 2014-4-21 16:17 static/image/common/back.gif
控制波长不动，用一个波长监控到底？
非规整，两层一个比较片， 还是规整的？
规整膜系。2层一个监控位置。只是最后2层用了短波长监控，试过用一个波长监控到底，没用。