关于高面型薄膜
请问一下,有没有人做过高面型薄膜,有什么好的方法来做这个东东呢?当然,我是指高反膜,膜层较厚的情况。。。。先谢谢了。。。{:6_151:} 高面形是指RMS很小吗? 你是说面形变形非常小吗? valle 发表于 2012-3-14 13:33 static/image/common/back.gif高面形是指RMS很小吗?
应该说PV值更准确些。。。 很少见有要求的P-V的,一般都只要求RMS呀,只有P-V值不代表面形好吧? 离子源选择重要 valle 发表于 2012-3-16 16:44 static/image/common/back.gif
很少见有要求的P-V的,一般都只要求RMS呀,只有P-V值不代表面形好吧?
不好意思,前几天挺忙的,没有回复,其实对于冷加工这些名词我不是很透,不过我们这出去的东西都是看PV值,而且也是指面型型。 wazxq 发表于 2012-3-16 22:59 static/image/common/back.gif
离子源选择重要
我这倒有一个中科的霍尔离子源,不过老是出毛病,没怎么用,我到是想过离子源冷镀肯定对面型有好处的,不过不知道是不是考夫曼的离子源会好一点呢? 不使用离子源,镀后使用高温退火能改善面型 nigoleo 发表于 2012-3-25 23:33 static/image/common/back.gif
不使用离子源,镀后使用高温退火能改善面型
感谢。{:6_166:} 我知道退火对面型的好处,那出此之外,还有没有其他的有效的方法来提高呢?另外,离子源会对面型造成什么样的影响呢?高面型薄膜真的不能使用离子源吗? yibi11 发表于 2012-3-26 10:29 static/image/common/back.gif
感谢。 我知道退火对面型的好处,那出此之外,还有没有其他的有效的方法来提高呢?另外,离子源 ...
离子源会增强膜层的应力,致密性等等。有在使用离子源的情况下,高温退火所起的作用就减弱了许多。
如果一定要求要使用离子源的话,那么就根据实际镀处理的膜层是什么应力,通过冷加工加工高低光圈进行配合了。 我觉得理论上,镀膜就不是一个均匀的过程,厚膜层必然导致PV值恶化。
我这边是这样做的:
1、基片面形首先要比较好;
2、试镀基片(可不管光洁度,但面形要与基片相同),
3、根据镀后结果,调整镀膜镜片的位置、重新调整修正板等等,
当然,如楼上讲的,冷加工要配合好
这样,应该能获得Dia70口径范围内,PV<0.1Lambda。
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