鍍金屬膜
在半導體產業 經常鍍金屬膜但聽說金屬膜的真空條件必須在-6~-10torr
why??
鍍金屬膜
保证在较高真空度下镀膜,防止金属氧化鍍金屬膜
也可以不用那么高的真空度,但需要通入气体保护鍍金屬膜
通入氣體保護??什麼意思阿?
鍍金屬膜
抱歉,是我搞错了!我见到的半导体方面镀金属膜或激光器件镀AR膜用的镀膜机采用的高真空泵都是低温泵,真空度确实比较高,都在10-7 Torr左右。
有时镀膜过程中会向真空室内通入惰性气体以保护膜层,减少氧化。
鍍金屬膜
你们保护气一般使用哪种气体?(N2、Ar还是其他)鍍金屬膜
后者多一点,金属膜高温易氧化,真空度是要高一点的好鍍金屬膜
下面引用由ic5在 2003/07/29 02:31pm 发表的内容:你们保护气一般使用哪种气体?(N2、Ar还是其他)
我用的是Ar。当真空度在10-3左右,打开Ar阀,调节节流阀,使工作室内真空为0.1×10-1,再开始镀膜。
我用的是磁控溅射。
鍍金屬膜
有没有新的镀制金属膜的工艺?请告知?鍍金屬膜
他怎么用的是繁体的文字!用气体保护!高真空!要不去太空!!·!开玩笑的!我看大家需要轻松一下!鍍金屬膜
是要用气体保护的,不然真会氧化的!鍍金屬膜
好像有人用电子枪镀金属膜,其用什么坩埚,工艺如何呀?
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