新一代离子源
KAUFMAN博士最新开发的END-HALL型离子源,又称KRI离子源,与传统离子源比较,阳极电压和离子流能量得到较大提高,同时体积减小很大,广泛应用于IAD和预清洗工艺,如需详细资料,请联系:刘先生T:010-6566-0071
E-mail:andyliu@hakuto.com.hk
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Please mail the information to me.mail:hackerzhang@etang.com
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方便的话,能否给我发一份:Optical_wu@wri.com.cn
我正在查找各类型离子源方面的资料,谢谢
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由于资料较多,请上面两位将详细的联系方法告之,我们会将资料尽快寄给您。谢谢。新一代离子源
或者通过电话直接与我联系。刘先生:010-6566-0071新一代离子源
已将简单资料发给你们,如需详细资料,请随时与我联系。谢谢。新一代离子源
Mr. Liu:I’’ve recieved your information.When I need the ion source,I’’ll contact with you.
ThanksRegards!
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对于EH离子源,我总觉得它的功率变化范围太小,很难往小的方向调,有时用了离子源后薄膜的折射率做得反而低了,不知有没有新的可调范围比较大的离子源?新一代离子源
其能量分布怎么样?价格多少?新一代离子源
与VECCO的离子源相比,有很多改进。包括:能量、离子束范围及体积等。欢迎大家索取详细资料。新一代离子源
我们以前镀膜牢固度还不错。但现在经常有脱膜现象,有建议我们加离子源。请问离子源对膜层牢固的影响到底有多大?能否发份资料给我。谢谢!yangju9@hotmail.com