磁控溅射
有没有高手可以讲一下磁控溅射的工艺和要点啊?磁控溅射
好!我也很想了解!能说详细点更好!磁控溅射
好好我也拭目以待 和电子枪一个道理。只是蒸发源不同而己
我想可以这样理解。 磁控溅射简单的理解就是让靶和充入的气体各带不同电荷,在相吸的情况下把膜了撞击出来.在充氧的情况下形成氧化物再沉积到基片上的过程.
有没有了解过老毛子的一种带弯靶的溅射机,弯度是90度.弯靶中有一种装置--龙骨,可以过滤溅射出来的膜料分子,可以做出更致密的膜层.哈哈 和平面靶不同吧? 楼上说的是磁过虑多弧源吧?90度的磁场跑道将离子引出,把大液滴挡掉,但是效率要降低很多.
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