guangxuehao 发表于 2004-2-12 05:04:00

讨论抛光!

做冷加工,你必须知道,了解,甚至做透抛光,唯有如此,你说话可能才有分量!

夏冬瓜 发表于 2004-2-12 06:20:00

讨论抛光!

我以为抛光是一项磨练人意志和耐性的活,我干光加有四年,总觉得还是学的不够,总觉得还有突破,可是我是超抛平面的,就是急不得,每天小心翼翼的,要知道我砸坏一个东东就是8万钱啊,真想换地方了,这里太紧张了。工资又低,这项工作,理论不多,就是靠你的经验,就是2 个字,枯燥。

laowupo 发表于 2004-2-12 07:22:00

讨论抛光!

下面引用由mincailiu在 2004/02/10 12:41pm 发表的内容:
laowupo ,你在台资企业工作?

大家都说的对
1、YES
2、本人从事加工10年其中铣磨、精磨占掉学徒的2/3,抛光占1/3
3、如果给位铣磨、精磨都会抛光也就好做,它只是脏、粉尘多没时间玩

yangxm 发表于 2004-2-12 20:32:00

讨论抛光!

各位说的不错,抛光质量的好坏与机床抛光液抛光胶都有关系,但最主要的是人,而
人的技术好坏又与他的接受能力有很大关系(我们一个班毕业了二十几个干得不错的没几个),除此之外又与经验有关系。

lczhy00001 发表于 2004-2-12 20:51:00

讨论抛光!

进口抛光革,化学抛光液,抛光压力、温度、湿度、抛光液PH值、
转速等有关系!!
计算抛光去除量的公式方程为式(5):
H=CPVT                     (5)
H:抛光表面去除量
C:常数,不同材料其数值不同
V:速率
P:单位面积上的压力
T:时间
影响抛光的因素还有抛光液种类、浓度、温度、PH值等。抛光液温度影响抛光工件的平面度;抛光液种类、浓度、PH值影响抛光速度。
表1:抛光液种类、浓度与抛光去除速率的关系
抛光液(体积比为10%的溶液)时间(min)去除量(μm)
300目CeO2 6028
500目CeO26020
40~50nm的SiO2601
PH值与抛光速率的关系如下:
PH值               去除速率nm/min
0      18
7                  24
14   48
坐标关系为:





   图 3: PH 值与抛光去除速率的关系               
以300目CeO2去除研磨加工损伤层, 500目CeO2去除残留的损伤层,3550化学抛光液PH值=11添加NaClO使PH值=14代替SiO2进行抛光可达到较好的效果。并在平面干涉仪上检测光圈,使之达到低光圈N=λ/6-λ/4的要求。合格即可下盘,清洗干净。
抛光时:温度:25℃
P=400g/cm2
    V=125cm/s(100r/min,Φ=120mm)

宝宝 发表于 2004-2-12 22:46:00

讨论抛光!

如果你要加工一批件的话,可以去研究所找有关人士进行氟发抛光.效果很好.用的好象是纳米级抛光液.

GRISH 发表于 2004-2-13 20:36:00

讨论抛光!

我们有各种抛光液、研磨纸等。如有兴趣请联系:
北京国瑞升科技有限公司
葛如松
010-82890563-16
8289804382890623
ymz89@hotmail.com

vicbai 发表于 2004-2-13 20:56:00

讨论抛光!

关键在人,机床和胶盘以及抛光济也很重要,机床的主轴很重要,还有室温,转速和摆速也不能忽视,有事可以找我。vicbai2000@yahoo.com.cn

yljfeng 发表于 2004-2-13 23:26:00

讨论抛光!

哪儿有纳米级的氧化铈抛光粉啊?或者亚纳米级的抛光粉?

guangxuehao 发表于 2004-2-14 03:08:00

讨论抛光!

在抛光上,很多东西是不能用理论解答的!!做冷加工这一行,动手实践是第一位的!!

laowupo 发表于 2004-2-14 08:52:00

讨论抛光!

卖辅材不如卖加工技术

流星 发表于 2004-2-14 23:23:00

讨论抛光!

干光学加工很辛苦的,也很磨练人的耐性,有时候也很费脑筋.
设备和辅料重要,先进的工艺,人的素质和经验更重要.
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